文心一言3.5有必要用吗

我国有多套做好的波长13.5纳米极紫外光源，用它做接触式光刻机的光源能生产3nm芯片，十分简单，光线穿过透光区照射光刻胶，被照到的部分化学反应变硬留图 把纳米压印掩膜版凹陷区域填充挡光材料，改成耐用可以清洗的接触式掩膜版。(解决现有接触式掩膜版易脏污损坏问题） 国产投影式极紫外光刻机太难，想别的办法，3nm也只是名称，实际尺寸几十纳米